确定光刻胶成像情况及表面情况是否符合要求,以确定能否进行下道工序基本步骤,需要对掩模版进检验
①、UV灯下检查光刻胶是否有划伤、沾污或覆盖不完全的情况
②、显微镜下检查是否没有光刻胶图形、重复曝光、浮胶、图形 套偏(错行,错位)、接触不良、曝光不适度、光刻胶覆盖不完全、显影不彻底、连条、沾污、缺口、毛刺等现象