新闻中心

光刻机是干什么用的

2021-11-02 1345

光刻机(Mask Aligner) ,又名掩模对准曝光机,是芯片制造流程中,光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂,但可以概括为几大步骤:


硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻-->刻蚀-->工艺集成等。


而光刻工艺是制造流程中最关键的一步,光刻确定了芯片的关键尺寸,在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。

光刻(photolithography)工艺是将掩膜版(光刻版)上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面,再经过分步重复曝光和显影处理之后,在晶圆上形成需要的图形。



通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易。根据曝光方式不同,光刻可分为接触式、接近式和投影式;根据光刻面数的不同,有单面对准光刻和双面对准光刻;根据光刻胶类型不同,有薄胶光刻和厚胶光刻。而光刻机本身按照应用可以分为几类,用于制造芯片的光刻机,用于封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。

手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;



半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

一般的光刻流程包括底膜处理、涂胶、前烘、对准曝光、显影、刻蚀,去胶光刻检验等,可以根据实际情况调整流程中的操作。



作者:温戈
链接:https://www.zhihu.com/question/283670937/answer/1792139742
来源:知乎
著作权归作者所有。商业转载请联系作者获得授权,非商业转载请注明出处。